特許

J-GLOBAL ID：200903068020265034

スパッタターゲットおよびその製造法

発明者： マーティン シュロット ,  マーティン クッツナー ,  ヴォルフガング ダウト
出願人/特許権者： ライボルト マテリアルス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-100966
公開番号（公開出願番号）：特開平10-324968
出願日： 1998年04月13日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：

【要約】【課題】 理論的密度の少なくとも90%の密度を有するターゲットプレートの粉末冶金的製造法。【解決手段】 ZnSとSiO2とを湿式混合し、乾燥させ、熱プレスし、かつ緩徐に冷却してターゲットプレートを製造する。【効果】 亀裂がなく、理論的密度の90%の密度を有し、99%の純度のZnSを含有するスパッタターゲットが得られる。

請求項（抜粋）：

陰極スパッタの際に使用するためのZnS少なくとも70モル%および場合により他の添加剤を有するスパッタターゲットにおいて、該ターゲットがその理論的密度の少なくとも90%の密度を有し、かつ主として閃亜鉛鉱変性剤中に可撓性のZnSを含有していることを特徴とする、スパッタターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/547 ,  C23C 14/06

FI (4件)：

C23C 14/34 A ,  C23C 14/06 D ,  C23C 14/06 L ,  C04B 35/00 T