特許
J-GLOBAL ID：200903068034844843
流体処理のための紫外線装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 明彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-510700
公開番号（公開出願番号）：特表平9-503160
出願日： 1994年10月06日
公開日（公表日）： 1997年03月31日
要約：
【要約】水殺菌システムは、その外側ダクト13が紫外線処理装置11に接続された静電形水処理装置10を備える。紫外線水処理装置11の出口ダクト14は、処理した水をオゾンガスで曝気する装置12に接続されている。装置10の静電界は、フローダクトの軸線に沿って変化し、溶けている無機物が溶解状態から析出する速度を増大させる。紫外線処理装置11はスロット付きのヘリカルガイドベーンを有し、それによって水に乱流を生じさせ、かつ微生物の大きなかたまりが確実にバラバラになるようにしている。オゾンガスは、装置15において水蒸気及び空気を短波長紫外線に曝露することによって生成される。
請求項（抜粋）：
1)その両端部又はその近傍に入口ポート及び出口ポートを有する細長い筒状ダクトと、前記ダクトの軸線に沿って延長する細長い光源と、入口ダクトと出口ダクトの間で前記ダクトの内壁に沿って螺旋状に延長するガイドベーンとからなり、前記ベーンによって画定される流体の流路の隣接する各ターンの間を連絡する開口が前記ガイドベーンに形成されていることを特徴とする流体処理装置。2)前記ガイドベーンの開口が放射方向に延長するスロットからなることを特徴とする請求項1記載の流体処理装置。3)前記ダクトに沿って前記光源と前記ガイドベーンの放射方向内側縁端部との間を軸線方向に延長する第2の流体流路を備えることを特徴とする請求項1又は2記載の流体処理装置。4)前記ダクトの内壁上に配設され、かつ螺旋状の前記ガイドベーンの前記開口を通過する流体の流れを促進するように構成された概ね長手方向に延長するベーンを備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の流体処理装置。5)前記螺旋状ガイドベーンが、前記ダクトの壁面に螺旋状線に沿って形成された一連のスロットのそれぞれに挿入される複数のベーンセグメントからなることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載の流体処理装置。6)前記各ベーンセグメントが、挿入前に、組立てられた時に螺旋を画成するように予め形成されていることを特徴とする請求項5記載の流体処理装置。7)処理される流体のための流路と、透明壁を介して前記流路内の流体に光を放射する光源とからなり、前記透明壁が、該透明壁によって支持された比較的低接着性材料の層によって前記流体から分離されていることを特徴とする流体処理装置。8)前記透明壁がガラス材料からなることを特徴とする請求項7記載の流体処理装置。9)前記ガラス材料が石英ガラスであることを特徴とする請求項8記載の流体処理装置。10)前記光源が、前記流体流路の中を延長する透明壁のスリーブ内部に取付けられていることを特徴とする請求項7乃至9のいずれか記載の流体処理装置。11)比較的低接着性材料の前記層が、前記透明壁スリーブの上に被層された前記材料のチューブからなることを特徴とする請求項10記載の流体処理装置。12)比較的低粘着性材料の前記チューブが、前記スリーブ上に再被覆される熱収縮性チューブからなることを特徴とする請求項11記載の流体処理装置。13)比較的低粘着性材料の前記層が、溶射によって前記透明壁に設けられることを特徴とする請求項7乃至10のいずれか記載の流体処理装置。14)前記流体流路の内部に流体の乱流を生じさせるために配置されたベーンを備えることを特徴とする請求項7乃至13のいずれか記載の流体処理装置。15)比較的低粘着性材料の前記層が15〜150nMの厚さを有することを特徴とする請求項7乃至15のいずれか記載の流体処理装置。16)比較的低粘着性材料の前記層がシリコンフルオロカーボン重合体からなることを特徴とする請求項7乃至16のいずれか記載の流体処理装置。17)流体が流れるためのダクトと、前記ダクトに静電界を加えるための手段とからなり、前記静電界の強度が前記フローダクトの長さに沿って変化することを特徴とする流体処理装置。18)前記静電界が、2個の離隔された電極間に形成されることを特徴とする請求項17記載の流体処理装置。19)一方の前記電極が処理される流体から絶縁されていることを特徴とする請求項18記載の流体処理装置。20)前記静電界の密度が、前記ダクトの長さに沿って前記2個の電極間の間隔が変化することによって変化することを特徴とする請求項18又は19記載の流体処理装置。21)筒状の外側電極とその軸線に沿って延長する内側電極とを備えることを特徴とする請求項20記載の流体処理装置。22)前記外側電極が前記ダクトの側壁を形成することを特徴とする請求項21記載の流体処理装置。23)前記内側電極の表面が、前記電極間の放射方向の距離が前記フローダクトの長さに沿って変化するように成形されていることを特徴とする請求項21又は22記載の流体処理装置。24)前記外側電極の内面が、前記電極間の放射方向の距離が前記フローダクトの長さに沿って変化するように成形されていることを特徴とする請求項21又は22記載の流体処理装置。25)成形された前記電極面が、該電極面に形成された環状の隆起部又は溝からなることを特徴とする請求項23又は24記載の流体処理装置。26)流体のフローダクトと、前記ダクトを横切る横方向の磁界を形成するための手段とからなり、前記磁界の方向が前記ダクトの長さに沿って変化することを特徴とする流体処理装置。27)前記磁界の方向が前記ダクトの長さに沿って少なくとも360度に亘って変化することを特徴とする請求項26記載の流体処理装置。28)前記ダクトの半径方向対向位置に配置された正負両極の磁石対と、前記ダクトの長さに沿って配設された複数のこのような磁石対とからなり、前記各磁石対によって形成される磁界の方向が隣接する磁石の磁界からずれていることを特徴とする請求項26又は27記載の流体処理装置。29)前記磁界の方向が前記ダクトの長さに沿って螺旋状に旋回するように、連続する前記磁石対が、隣接する前記磁石対から90度以下の範囲でずれていることを特徴とする請求項28記載の流体処理装置。30)前記磁石が電磁石からなることを特徴とする請求項26乃至29のいずれか記載の流体処理装置。31)前記ダクトの壁部が非磁性材料で形成されていることを特徴とする請求項26乃至30のいずれか記載の流体処理装置。32)流体のフローダクトと、前記ダクト内の流体に印加される静電界及び/又は電磁界を発生させるための手段と、前記ダクト内の流体に前記静電界及び/又は電磁界の下流側で紫外光を照射するための紫外光源とからなることを特徴とする流体処理システム。33)空気または酸素及び水をそれぞれ受取るための入口部と、前記空気又は酸素内の水を蒸気化するための手段と、前記蒸気を短波長紫外線に曝露するための手段とからなることを特徴とする酸化ガス発生装置。34)前記短波長紫外線が100〜200nMの波長を有することを特徴とする請求項33記載の酸化ガス発生装置。35)前記蒸気を短波長放射線に曝露するための手段が、出力する実質的に全部の放射線が100〜200nMであるように調整した水銀アーク放電ランプからなることを特徴とする請求項34記載の酸化ガス発生装置。36)前記ランプの出力波長が、前記ランプの表面温度を上げるために前記蒸気を加熱することによって調整されることを特徴とする請求項35記載の酸化ガス発生装置。37)前記ランプが、該ランプの指定使用電流より大きい電流で駆動されることを特徴とする請求項35又は36記載の酸化ガス発生装置。38)前記水銀放電チューブが、その両端に入口ダクト及び出口ダクトを有するフローダクトに沿って軸線方向に延長することを特徴とする請求項35乃至37のいずれか記載の酸化ガス発生装置。39)流体のフローダクトと、前記ダクト内の流体に紫外光を放射するための紫外光源と、前記紫外光源の下流側で前記流体に酸化ガスを導入するための手段とからなることを特徴とする流体処理システム。40)前記紫外光源の上流側で前記流体を静電界及び/又は電磁界に曝露するための手段を備えることを特徴とする請求項39記載の流体処理システム。41)空気の流れを生じさせるための送風手段と、前記空気の流れに紫外線を照射するための手段とからなることを特徴とする空気殺菌装置。42)前記紫外線の波長が主に245〜265nMであることを特徴とする請求項41記載の空気殺菌装置。43)前記紫外線の波長が253.7nMであることを特徴とする請求項42記載の空気殺菌装置。
IPC (5件)：
C02F 1/32
, B01J 7/00
, B01J 19/12
, C02F 1/48
, B01F 5/00
C02F 1/32
, B01J 7/00 Z
, B01J 19/12 C
, C02F 1/48 B
, C02F 1/48 A
, B01F 5/00 F
