特許
J-GLOBAL ID:200903068041886438
水性洗浄剤組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-160636
公開番号(公開出願番号):特開2002-348600
出願日: 2001年05月29日
公開日(公表日): 2002年12月04日
要約:
【要約】【課題】 高い洗浄性とスチレン系樹脂等のプラスチック基材に対する基材損傷抑制を両立し、かつ洗浄後の被洗浄面の仕上がり性に優れた水性洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 (A)モノエタノールアミン、モルホリン、及びモルホリン誘導体化合物から選ばれる1種又は2種以上を0.1〜5質量%、(B)炭素数14〜22の飽和又は不飽和脂肪酸を0.1〜20質量%、(C)テルペン系炭化水素を0.01〜2質量%、及び(D)界面活性剤を0.1〜10質量%含有し、pHが8〜11であることを特徴とする水性洗浄剤組成物である。
請求項(抜粋):
(A)モノエタノールアミン、モルホリン、及びモルホリン誘導体化合物から選ばれる1種又は2種以上を0.1〜5質量%、(B)炭素数14〜22の飽和又は不飽和脂肪酸を0.1〜20質量%、(C)テルペン系炭化水素を0.01〜2質量%、及び(D)界面活性剤を0.1〜10質量%含有し、pHが8〜11であることを特徴とする水性洗浄剤組成物。
IPC (5件):
C11D 17/08
, C11D 1/04
, C11D 3/18
, C11D 3/28
, C11D 3/30
FI (5件):
C11D 17/08
, C11D 1/04
, C11D 3/18
, C11D 3/28
, C11D 3/30
Fターム (15件):
4H003AB03
, 4H003AC08
, 4H003BA12
, 4H003DA05
, 4H003DA08
, 4H003DA12
, 4H003DA17
, 4H003DB02
, 4H003EB14
, 4H003EB20
, 4H003ED02
, 4H003ED03
, 4H003FA15
, 4H003FA21
, 4H003FA28
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭61-076599
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液体洗浄剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-057846
出願人:ライオン株式会社
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生地臭改善剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-321802
出願人:花王株式会社
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