特許
J-GLOBAL ID:200903068062341164
微細構造の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-170853
公開番号(公開出願番号):特開2002-365153
出願日: 2001年06月06日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 封止された微細な中空構造をより容易に形成できるようにする。【解決手段】 可動電極108上に、有機ポリマー樹脂をスピン塗布することで、封止膜110を形成する。有機ポリマー樹脂としては、金メッキ膜に対する濡れ性の悪いものが好ましく、例えば、ポリベンゾオキサゾール(もしくはこの前駆体)などを用いる。
請求項(抜粋):
基板上に凹部構造を形成する第1の工程と、前記凹部内に犠牲膜を充填する第2の工程と、開口部を備えた板状の蓋を、前記凹部構造の側壁より前記開口部が離間した状態で、前記凹部構造を覆うように配置して固定する第3の工程と、前記開口部より前記犠牲膜をエッチング除去して前記蓋の下に前記凹部による空間を形成する第4の工程と、前記蓋の上に液状の材料を塗布して塗布膜を形成し、これを固化することで前記蓋の上に封止膜を形成して前記開口部を塞ぐ第5の工程とを備えたことを特徴とする微細構造の製造方法
IPC (7件):
G01L 9/12
, B05D 1/40
, B81B 3/00
, B81C 1/00
, G01L 1/14
, G01L 5/00 101
, H01L 29/84
FI (7件):
G01L 9/12
, B05D 1/40 A
, B81B 3/00
, B81C 1/00
, G01L 1/14 K
, G01L 5/00 101 Z
, H01L 29/84 Z
Fターム (30件):
2F051AB06
, 2F051BA07
, 2F055AA40
, 2F055BB20
, 2F055CC02
, 2F055DD05
, 2F055EE25
, 2F055FF38
, 2F055FF43
, 2F055GG01
, 2F055GG11
, 4D075AC79
, 4D075AC82
, 4D075DA06
, 4D075DB11
, 4D075DB14
, 4D075DC22
, 4D075EA05
, 4D075EB39
, 4M112AA01
, 4M112BA07
, 4M112CA03
, 4M112CA04
, 4M112CA11
, 4M112CA15
, 4M112DA02
, 4M112DA18
, 4M112EA11
, 4M112EA14
, 4M112FA01
引用特許:
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