メツキ処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-332427
公開番号（公開出願番号）：特開平5-140790
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：

【要約】【目的】メッキ処理時に気泡が発生しても、その気泡が被メッキ基板のメッキレジストの開口部に溜らない状態でその開口部中の被メッキ部にメッキが均一にできて、メッキ処理の効率の良いメッキ処理方法を提供することを目的とする。【構成】表面にメッキレジスト54が被着され、該メッキレジスト54に所定形状の開口部54aが形成されて該開口部54a中が被メッキ部55となっている被メッキ基板50を所定の傾斜状態でメッキ槽1内のメッキ液41中に浸漬する。そして、その被メッキ基板50を同一平面内で回転させながらメッキ処理を行う。

請求項（抜粋）：

表面にメッキレジストが被着され、該メッキレジストに所定形状の開口部が形成されて該開口部中が被メッキ部となっている被メッキ基板を所定の傾斜状態でメッキ槽内のメッキ液中に浸漬して、少なくとも所定の角度位置と該所定の角度位置から同一平面内で180度反転させた角度位置とにおいてメッキ処理することを特徴とするメッキ処理方法。

IPC (3件)：

C25D 5/02 , C25D 7/00 , H01L 21/321

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭58-064394
特開平1-255684
特開昭63-238283

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