特許
J-GLOBAL ID：200903068072333836
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-201110
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027446
出願日： 1991年07月17日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【構成】(a)標準ポリスチレン換算重量平均分子量が4,000〜20,000の範囲にあるアルカリ可溶性ノボラック樹脂 100重量部、(b)分子量が100〜1,000の範囲にあるフェノール性化合物 5〜100重量部および(c)特定の構造式を持つフェノール性化合物の1,2-キノンジアジドスルホン酸エステル1〜85重量部、を含有してなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【効果】本発明のポジ型レジスト組成物は、PEBの効果を十分に引き出すことができ、高感度で、解像度およびパターン形状に優れ、特にドライ剥離性の優れたポジ型レジストとして好適に使用できる。
請求項（抜粋）：
(a)標準ポリスチレン換算重量平均分子量が4,000〜20,000の範囲にあるアルカリ可溶性ノボラック樹脂 100重量部、(b)分子量が100〜1,000の範囲にあるフェノール性化合物5〜100重量部および(c)下記式(1)【化1】ここで、R1〜R19は同一もしくは異なり、水素原子、水酸基、C1〜C6のアルキル基、C6〜C14のアリール基またはC7〜C18のアラルキル基であり(ただし、R1〜R5の少なくとも1つ、R6〜R10の少なくとも1つおよびR15〜R19の少なくとも1つは水酸基であるものとする)、Ra、RbおよびRcは同一もしくは異なり、水素原子またはC1〜C6のアルキル基である、で表わされるフェノール性化合物の1,2-キノンジアジドスルホン酸エステル1〜85重量部、を含有してなることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/22
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
