特許
J-GLOBAL ID:200903068074138046
色素形成材料、画像形成材料、及び画像形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-160853
公開番号(公開出願番号):特開2002-348490
出願日: 2001年05月29日
公開日(公表日): 2002年12月04日
要約:
【要約】【課題】 安価に効率よく色素を形成できる色素形成材料、及びこれを用いた画像形成材料、並びに簡便な操作で安価に画像を形成し得る前記画像形成材料を用いた画像形成方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)で表されるアゾメチン色素前駆体と、該アゾメチン色素前駆体に作用してアゾメチン色素を形成させる下記一般式(2)で表される脱保護剤とを含有する色素形成材料、これを用いた画像形成材料、及び画像形成方法である。【化1】一般式(1)中、Arは芳香環または複素環を表す。Cpはカプラー残基を表す。L1はフルオレニルメトキシカルボニル基、インデニルメトキシカルボニル基を表す。L2は水素原子、又は色素形成の過程で離脱する置換基を表す。【化2】一般式(2)中、Aは、1〜3価の陽電荷を有する原子団を表す。Bは、Aの電荷を中和する陰電荷を有する原子団を表す。p,qは、1〜6の整数を表す。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表されるアゾメチン色素前駆体と、該アゾメチン色素前駆体に作用してアゾメチン色素を形成させる下記一般式(2)で表される脱保護剤とを含有することを特徴とする色素形成材料。【化1】一般式(1)中、Arは、置換基を有していてもよい芳香環または複素環を表す。Cpは、カプラー残基を表し、環を形成していてもよいし、形成していなくてもよい。L1は、置換基を有していてもよいフルオレニルメトキシカルボニル基、置換基を有していてもよいインデニルメトキシカルボニル基を表す。L2は、水素原子、又は色素形成の過程で離脱する置換基を表す。【化2】一般式(2)中、Aは、1〜3価の陽電荷を有する原子団を表す。Bは、Aの電荷を中和する陰電荷を有する原子団を表す。p,qは、1〜6の整数を表す。
IPC (5件):
C09B 55/00
, G03F 7/004 507
, G03F 7/004 514
, G03F 7/028
, G03F 7/26 521
FI (5件):
C09B 55/00 E
, G03F 7/004 507
, G03F 7/004 514
, G03F 7/028
, G03F 7/26 521
Fターム (19件):
2H025AA01
, 2H025AA11
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BC13
, 2H025BC42
, 2H025CA00
, 2H025CC16
, 2H025DA10
, 2H025FA26
, 2H025FA39
, 2H096AA30
, 2H096BA05
, 2H096EA02
, 2H096GA52
, 2H096GA55
, 2H096LA30
引用特許:
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