特許

J-GLOBAL ID：200903068082408567

レジストの剥離方法

発明者： 高畑 忠雄 ,  石塚 義次 ,  柳原 和明 ,  田中 昌利 ,  近藤 圭英 ,  久保田 吉勝
出願人/特許権者： 旭電化工業株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-228724
公開番号（公開出願番号）：特開平6-073562
出願日： 1992年08月27日
公開日（公表日）： 1994年03月15日
要約：

【要約】【構成】 エッチング又はメッキ後のレジスト剥離工程において、剥離液として下式の水溶性アミン及び/又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液を使用するにあたりpHを測定し、この測定結果に基づき上記の水溶液の供給を行い、常に液組成を一定にすることを特徴とするレジストの連続剥離方法。【化3】【効果】 メッキレジスト、エッチングレジストの剥離処理を連続して均一に行うことが出来る。又、長時間金属表面と接触してもアルカリ焼けを引き起こさず、更にアルミニウムをほとんど腐食しない為従来不可能とされていたアルミニウム基板の水溶性レジスト剥離に最適である。

請求項（抜粋）：

エッチング又はメッキ後のレジスト剥離工程において、剥離液として下式の水溶性アミン及び/又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液を使用するにあたりpHを測定し、この測定結果に基づき上記の水溶液を供給することを特徴とするレジストの連続剥離方法。【化1】(式中、R は水素、メチル基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基を表し、それぞれ同一の基又は異なる基であっても良く、R'はエチレン基を表し、nは0〜3の値である)

IPC (5件)：

C23F 1/00 104 ,  C23C 18/16 ,  C25D 5/02 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18