薬液濃度管理方法、管理装置および薬液処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺勝 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-319373
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150447
出願日： 1998年11月10日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】シリコンウェハ等の洗浄に使用されるアンモニア一過酸化水素混合液のアンモニア濃度と過酸化水素濃度の濃度をより高精度に一定に保つことにより洗浄能力を保持し、また薬液の使用量を削減することができる洗浄装置の提供。【解決手段】薬液濃度を連続的にモニタリングし、且つ半導体基板洗浄時における洗浄装置の稼動状態をモニタリングし、その測定結果に基づいて薬液濃度の経時変化を正確に予測して、薬液の補充量を計算し調整して薬液濃度を一定に保持し、また薬液濃度の予測に使用する補正係数を自動的に最適化する。

請求項（抜粋）：

少なくとも2成分以上からなる洗浄用薬液の濃度管理方法であって、洗浄槽内の薬液濃度変化を、該濃度変化の原因をパラメータとして表した算出式を用いて予測し、予測値と予め設定した薬液制御濃度から各薬液成分の不足分を計算し各薬液の最適補充量を算出して前記洗浄槽に薬液を補充することを特徴とする洗浄用薬液の濃度管理方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特公平5-024660
特開昭60-223131
特公平5-024660

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