特許

J-GLOBAL ID：200903068111334551

画素の対称性、特に画像投影装置に対して画素の対称性を上げる装置および方法

発明者： タン, チン
出願人/特許権者： シンボル テクノロジーズ, インコーポレイテッド
代理人 (3件)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-512343
公開番号（公開出願番号）：特表2008-541193
出願日： 2006年05月03日
公開日（公表日）： 2008年11月20日
要約：

透光性の窓を有するハウジング内に特に設けるための軽量小型の画像投影モジュールが、ラスタパターンの選択された画素を照射して、高解像度のVGAの品質の画像をカラーで生成させるように動作する。画素は、レーザビームのビームスポットの狭い方の寸法をラスタパターンの走査線に沿って並べることで、断面が対称にされる。本発明によって、画素の対称性が改善されるシャープで明瞭な2次元カラー画像を投影する画像投影装置を提供される。

請求項（抜粋）：

画像を投影する画像投影装置であって、 a) 断面にビームスポットのあるレーザビームを生成するための光学アセンブリであって、該ビームスポットが、互いに直交する長い方の寸法と狭い方の寸法とをもつ楕円形状である光学アセンブリと、 b) 互いに直交する走査方向に沿って該ビームスポットを掃引し、該走査方向の内の一つの方向に沿って配置される多数の画素をおのおのがもち、該長い方の寸法と狭い方の寸法とに対応する互いに直交する画素寸法を各画素が有するスキャナと、 c) 該一走査方向に沿って該狭い方のスポット寸法を向けるように動作する光学アセンブリであって、該画素寸法をさらに対称にするために該スキャナによって掃引が行われるように、該一走査方向に沿った該狭い方のスポット寸法よりも該一走査方向に沿った該画素寸法が大きい、光学アセンブリと、 d) 該スキャナと該光学アセンブリとに対して動作的に連結され、選択された画素を照射し、可視化して、さらに対称な画素をもつ該画像を生成する制御装置と を備える画像投影装置。

IPC (2件)：

G03B 21/00 ,  G02B 26/10

FI (2件)：

G03B21/00 Z ,  G02B26/10 101

Fターム (25件)：

2H045AB34 ,  2H045AB54 ,  2H045AF02 ,  2H045BA13 ,  2H045BA24 ,  2K103AA01 ,  2K103AA16 ,  2K103AA29 ,  2K103AB07 ,  2K103AB10 ,  2K103BC03 ,  2K103BC22 ,  2K103BC29 ,  2K103BC30 ,  2K103BC47 ,  2K103CA13 ,  2K103CA17 ,  2K103CA19 ,  2K103CA24 ,  2K103CA25 ,  2K103CA26 ,  2K103CA34 ,  2K103CA38 ,  2K103CA55 ,  2K103CA57