BDM(ビス-フロオロキシジフルオロメタン)を用いるフッ素化1,3-ジカルボニルの高純度製造

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-220276
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053523
出願日： 2001年07月19日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：

【要約】【課題】酸の存在下でα-フッ素化-β-ジカルボニルを製造するための改良された効率的な方法を提供する。【解決手段】酸の存在下でβ-ジカルボニルをビス-フルオロキシジフルオロメタンで求電子的にフッ素化してα-モノフッ素化-β-ジカルボニルを製造することを含むα-フッ素化-β-ジカルボニルの製造方法。酸は好適にはフッ素化水素酸である。好適なβ-ジカルボニルはメチル-3-オキソペタノアートおよびエチル-4,4,4-トリフルオロアセトアセテートを含む。本方法はラジカル不純物副生物をある場合には4%以下、他の場合には0.5%未満に制限しうる。理論収率95%のα-モノフッ素化-β-ジカルボニルがある場合に可能である。

請求項（抜粋）：

α-フッ素化-β-ジカルボニルの製造方法であり、該方法は酸の存在下にβ-ジカルボニルをビス-フルオロキシジフルオロメタンで求電子的にフッ素化して該α-フッ素化-β-ジカルボニルを製造することを含む方法。

IPC (3件)：

C07C 67/307 , C07C 69/716 , C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07C 67/307 , C07C 69/716 Z , C07B 61/00 300

Fターム (16件)：

4H006AA02 , 4H006AC30 , 4H006BA28 , 4H006BA31 , 4H006BA37 , 4H006BA50 , 4H006BA52 , 4H006BA66 , 4H006BB14 , 4H006BC31 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4H006BR10 , 4H006KA31 , 4H039CA51 , 4H039CD10

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭51-004102
特開昭60-104042

審査官引用 (2件)

特開昭51-004102
特開昭60-104042

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