特許

J-GLOBAL ID：200903068121312742

レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者： 五十嵐 美和 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  野崎 耕司 ,  倉光 庸子
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 石田 敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-149459
公開番号（公開出願番号）：特開平7-120924
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】 解像性に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 基材樹脂、架橋剤および酸発生剤からなる化学増幅系ネガ型レジスト組成物であって、基材樹脂の重量平均分子量が2000〜5000であり、分散度が1.3以下である組成物。

請求項（抜粋）：

基材樹脂、架橋剤および酸発生剤からなる化学増幅系ネガ型レジスト組成物であって、基材樹脂の重量平均分子量が2000〜5000であり、分散度が1.3以下であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F