欠陥検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：則近憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-305787
公開番号（公開出願番号）：特開平6-160062
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】【構成】マスクの表面及び裏面側からそれぞれ検査光を投射して、マスクの反射光像と透過光像とを同時に撮像して、この撮像画像のパターンのエッジ部分に基づいて欠陥を検出するようにした。【効果】パターン形状不良と付着異物などのマスクの欠陥を好適に検出することができる。

請求項（抜粋）：

検査対象たるマスクを載置固定する載置手段と、前記マスクの表面に検査光を投光する投光手段と、前記マスクの表面を反射した検査光を撮像して撮像画像情報として出力する撮像手段と、前記撮像画像情報をマスクの設計情報と比較することによって欠陥を検出する欠陥検出手段とを具備することを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (2件)：

G01B 11/30 , G01N 21/88

引用特許：

審査官引用 (3件)

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