特許
J-GLOBAL ID:200903068130165051
レーザ加工条件自動設定方法およびレーザ加工条件自動設定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小田 富士雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-057465
公開番号(公開出願番号):特開平11-239887
出願日: 1998年02月23日
公開日(公表日): 1999年09月07日
要約:
【要約】【課題】 所望の微細形状を得るのに最適な加工条件を的確かつ迅速に設定することにより、レーザ加工過程の高効率化を図ることができるレーザ加工条件自動設定方法および装置を提供すること。【解決手段】 加工対象物の最終加工形状を示す設計図面データを入力する設計図面データ入力手段17と、素材入力手段18と、素材別の加工条件が蓄積された素材別加工条件記憶手段19と、素材別の加工条件に基づいて素材と最終加工形状とに応じた最適加工条件を決定する最適加工条件決定手段と、マスクデータが蓄積されたマスクデータ記憶手段20と、マスクデータに基づいて最終加工形状に応じたマスクパラメータを決定するマスクパラメータ決定手段と、加工速度データが蓄積された加工速度データ記憶手段21と、加工速度データに基づいて最終加工形状、最適加工条件及びマスクパラメータに応じた加工速度プロファイルを決定する加工速度プロファイル決定手段とを備えることを特徴とする。
請求項(抜粋):
マスクの開口を介してパルスレーザ光を加工対象物に照射することにより加工を行うレーザ加工の加工条件を設定する方法であって、前記加工対象物の最終加工形状を示す設計図面データを入力する工程と、前記加工対象物の素材を入力する工程と、前記加工対象物の素材別の加工条件に基づいて、前記加工対象物の素材と前記最終加工形状とに応じた最適加工条件を決定する工程と、前記マスクの開口を特定するためのマスクデータに基づいて、前記最終加工形状に応じたマスクパラメータを決定する工程と、前記パルスレーザ光による前記加工対象物の加工速度を制御するための加工速度データに基づいて、前記最終加工形状、前記最適加工条件及び前記マスクパラメータに応じた加工速度プロファイルを決定する工程と、を備えることを特徴とするレーザ加工条件自動設定方法。
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭61-241043
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-226780
出願人:株式会社リコー
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