特許
J-GLOBAL ID:200903068139958283

プラズマ形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-335784
公開番号(公開出願番号):特開平6-188237
出願日: 1992年12月16日
公開日(公表日): 1994年07月08日
要約:
【要約】【目的】広い面積に高密度なプラズマを均一に形成するプラズマ形成装置を提供する。【構成】電磁波と磁場の相乗作用でプラズマを形成するプラズマ形成装置において、プラズマ形成装置のプラズマ領域への電磁波供給部を接地導体基板5と接地導体基板5に容量接合した導体線路9を配置することにより形成した。導体線路9は接地導体基板5の全面に均一になるよう張り巡らされている。
請求項(抜粋):
マイクロ波領域の電磁波により気体をプラズマ状態にするプラズマ形成装置において、プラズマ形成領域を構成する放電管を有し、前記放電管に前記マイクロ波領域の電磁波を照射する手段として、接地導体基板と前記接地導体基板と容量結合した導体線路で構成したマイクロストリップ線路を用い、前記導体線路からの漏洩電磁波を前記放電管に供給することを特徴とするプラズマ形成装置。
IPC (4件):
H01L 21/31 ,  C23C 14/14 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/46

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