特許

J-GLOBAL ID：200903068147565657

アニール処理リチウムコバルト複合酸化物及びこの製造方法、アニール処理リチウムコバルト複合酸化物を用いた正極活物質、並びにリチウム二次電池

発明者： 曽我 巌
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-087182
公開番号（公開出願番号）：特開2006-269302
出願日： 2005年03月24日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：

【課題】所定のアニール処理を行ったリチウムコバルト複合酸化物を用いることにより、抵抗値の低減を図ったリチウム二次電池を提供する。【解決手段】リチウム二次電池の正極活物質として用いるアニール処理リチウムコバルト複合酸化物の製造方法であって、原料の焼成によりリチウムコバルト複合酸化物を得た後、前記リチウムコバルト複合酸化物を液体と接触させること無く、250°C以上500°C以下でアニール処理してアニール処理リチウムコバルト複合酸化物を得る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リチウム二次電池の正極活物質として用いるアニール処理リチウムコバルト複合酸化物の製造方法であって、 原料の焼成によりリチウムコバルト複合酸化物を得た後、 前記リチウムコバルト複合酸化物を液体と接触させること無く、250°C以上500°C以下でアニール処理して、アニール処理リチウムコバルト複合酸化物を得ることを特徴とするアニール処理リチウムコバルト複合酸化物の製造方法。

IPC (3件)：

H01M 4/58 ,  H01M 4/02 ,  H01M 10/40

FI (3件)：

H01M4/58 ,  H01M4/02 C ,  H01M10/40 Z

Fターム (32件)：

5H029AJ06 ,  5H029AK03 ,  5H029AL06 ,  5H029AL07 ,  5H029AL08 ,  5H029AM03 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029BJ04 ,  5H029CJ02 ,  5H029CJ28 ,  5H029EJ04 ,  5H029EJ12 ,  5H029EJ13 ,  5H029EJ14 ,  5H029HJ05 ,  5H029HJ14 ,  5H050AA12 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CB07 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050EA10 ,  5H050EA23 ,  5H050EA24 ,  5H050EA25 ,  5H050EA28 ,  5H050GA02 ,  5H050GA27 ,  5H050HA05 ,  5H050HA14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 非水二次電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-031843   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 非水電解質二次電池用正極活物質の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-002893   出願人：松下電器産業株式会社