特許
J-GLOBAL ID：200903068153551366
露光装置及び画像処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-056349
公開番号（公開出願番号）：特開2000-326557
出願日： 2000年03月01日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】 高速に画像処理を行ったり、高速回転可能なポリゴンモータを備えた走査装置を使用せずに、高解像度で、かつ、高階調な潜像を形成できる露光装置を得る。【解決手段】 画像データを階調変換する階調変換器15、参照マトリックスを生成する参照マトリックス生成器12、マトリックスデータと画素の濃度データとを比較した結果をデコーダ14に出力する比較部10、比較部10の比較結果から光強度レベルを決定してスイッチング回路部16を制御するデコーダ14、各々異なる駆動電流を出力するスイッチング回路16a〜16dを含むスイッチング回路部16、各スイッチング回路16a〜16dのそれぞれに重み付けした大きさの電流を付与する駆動電流制御回路18、半導体レーザ22に一定の閾値電流を付与するバイアス電流設定回路20、付与された電流の大きさに応じた光強度のビームを照射する半導体レーザ22とから構成される。
請求項（抜粋）：
画像データに基づいて変調された光ビームを感光体に照射して潜像を形成する露光装置において、光ビームを照射する光源と、前記光源から発せられる光ビームの光強度を複数段階に制御する光源制御手段と、1画素を複数のサブピクセルに分割し、画像データに応じて露光するサブピクセルを決定し、露光するサブピクセルの1画素内における副走査方向の個数に応じた光強度となるようにビームの強度を決定すると共に、決定された強度に応じてサブピクセル幅で光源を点滅させて主走査する制御手段と、を備えた露光装置。
IPC (3件)：
B41J 2/44
, G02B 26/10
, H04N 1/23 103
B41J 3/00 M
, G02B 26/10 Z
, H04N 1/23 103 B
