地盤改良工法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋敏忠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-025884
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214429
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】【課題】短期間用の地盤強化を短期間に行う地盤改良工法の提供。【解決手段】地中の軟弱地盤を強化する方法において、地中(M)に凍結材(LN)を噴射浸透させて地盤を凍土にする。

請求項（抜粋）：

液化ガスを噴射するモニタを改良するべき地盤中に挿入する工程と、該モニタから地盤中に液化ガスを噴射して当該地盤を凍結する工程と、液化ガスを噴射している前記モニタを回転させつつ地上側に引き上げる工程、とを含むことを特徴とする地盤改良工法。

Fターム (1件)：

2D043CA14

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