研磨用シリカゾルおよびそれを含有してなる研磨用組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-331807
公開番号（公開出願番号）：特開2007-137972
出願日： 2005年11月16日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：

【課題】ガラスハードディスク、その他の基板に対する研磨特性に優れる。【解決手段】動的光散乱法により測定された平均粒子径(D1)が40〜70nmの範囲にあり、BET法により測定された平均粒子径(D2)が10〜50nmの範囲にあり、異形度(D1/D2)が1.55〜4.00の範囲にある非球状シリカ微粒子が分散してなる異方形状シリカゾルであって、該異方形状シリカゾルの動的光散乱法により測定された粒子径分布において30〜70nmの粒子径範囲Aと71〜150nmの粒子径範囲Bにそれぞれ粒子径分布のピークがあり(但し、両ピークに相当する粒子径の差の絶対値が50〜100nmの範囲にある場合に限る。)、該粒子径範囲Aに存在する粒子の体積%と該粒子径範囲Bに存在する粒子の体積%の比が60:40〜95:5の範囲にある。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

動的光散乱法により測定された平均粒子径(D1)が40〜70nmの範囲にあり、BET法により測定された平均粒子径(D2)が10〜50nmの範囲にあり、異形度(D1/D2)が1.55〜4.00の範囲にある非球状シリカ微粒子が分散してなる異方形状シリカゾルであって、該異方形状シリカゾルの動的光散乱法により測定された粒子径分布において30〜70nmの粒子径範囲Aと71〜150nmの粒子径範囲Bにそれぞれ粒子径分布のピークがあり(但し、両ピークに相当する粒子径の差の絶対値が50〜100nmの範囲にある場合に限る。)、該粒子径範囲Aに存在する粒子の体積%と該粒子径範囲Bに存在する粒子の体積%の比が60:40〜95:5の範囲にあることを特徴とする研磨用シリカゾル。

IPC (6件)：

C09K 3/14 , B24B 37/00 , H01L 21/304 , C01B 33/141 , G11B 5/84 , G11B 7/26

FI (7件)：

C09K3/14 550D , B24B37/00 H , H01L21/304 622D , C09K3/14 550Z , C01B33/141 , G11B5/84 A , G11B7/26 521

Fターム (21件)：

3C058AA07 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C058DA02 , 3C058DA12 , 3C058DA17 , 4G072AA25 , 4G072AA28 , 4G072BB05 , 4G072CC01 , 4G072DD06 , 4G072EE01 , 4G072GG02 , 4G072HH18 , 4G072HH19 , 4G072PP01 , 4G072UU30 , 5D112AA02 , 5D112GA14 , 5D121AA02 , 5D121GG22

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平4-187512号公報
細長い形状のシリカゾルの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-280703 出願人：日産化学工業株式会社
研磨用組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-188562 出願人：日産化学工業株式会社

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審査官引用 (2件)

特開平4-065314
研磨剤ならびに平面層の製造法
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-572637 出願人：バイエルアクチェンゲゼルシャフト

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