特許
J-GLOBAL ID：200903068167286452
高周波イオンプレーティング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-190411
公開番号（公開出願番号）：特開平5-320884
出願日： 1991年07月30日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：
【要約】【構成】 高周波励起イオン化機構を有するイオンプレーティング装置において、高周波励起用コイルとして冷却水流通閉ループ構造を配設する。【効果】 1KW以上の大出力の高周波電力を投入することが容易となり、大型量産装置での高品質、高効率な成膜が可能となる。
請求項（抜粋）：
高周波励起イオン化機構を有するイオンプレーティング装置において、高周波励起用コイルとして冷却水流通閉ループ構造を配設してなることを特徴とする高周波イオンプレーティング装置。
引用特許：
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