特許

J-GLOBAL ID：200903068180901468

シリコンの精製方法

発明者： 花澤 和浩 ,  阪口 泰彦 ,  加藤 嘉英
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社
代理人 (1件)： 小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-328451
公開番号（公開出願番号）：特開平10-167716
出願日： 1996年12月09日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】電子ビーム溶解における不純物介在物を効果的に除去し、後流のシリコン精製工程の効率化を図ると共に、製品の歩留りの向上を図る。【解決手段】電子ビームの溶解を行うハース内に炭素又は炭化珪素を主成分フィルタを設け、不純物介在物の流出を防止する。

請求項（抜粋）：

電子ビーム溶解にてシリコンの精製を行うに当り、溶解部にフィルタを設け、溶融シリコンを濾過することを特徴とするシリコンの精製方法。

IPC (3件)：

C01B 33/037 ,  B01D 39/20 ,  H01L 31/04

FI (4件)：

C01B 33/037 ,  B01D 39/20 C ,  B01D 39/20 D ,  H01L 31/04 X