特許

J-GLOBAL ID：200903068183117733

耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法

発明者： 藤ノ木 朗 ,  松谷 利勝 ,  西村 裕幸
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343507
公開番号（公開出願番号）：特開平6-166522
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】 スート法によって製造された合成石英ガラスを出発母材として水素を含有させた耐紫外線レーザ用石英ガラスにおいて、レーザー照射時の前記常磁欠陥生成のバラツキを抑制し、より安定してレーザー耐性の優れた耐紫外線レーザ用光学部材を提供する事を目的としている。【構成】 揮発性珪素化合物を火炎加水分解し、生成するシリカ微粒子を回転する基体上に堆積させ、多孔質シリカ母材を構成し、該多孔質シリカ母材を透明ガラス化して得られる合成石英ガラスを出発母材として耐紫外線レーザー用光学部材を製造する方法において 前記多孔質シリカ母材の透明ガラス化を1×10-2torr以上の高真空下で行ない、前記出発母材を生成する工程と、該出発母材を水素含有雰囲気下で300乃至600°Cの温度領域を保持して水素濃度を1×1017分子/cm3 以上含有させる工程とを含む事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

揮発性珪素化合物を火炎加水分解し、生成するシリカ微粒子を回転する基体上に堆積させ、多孔質シリカ体を構成し、該多孔質シリカ体を透明ガラス化して得られる合成石英ガラスを出発母材として耐紫外線レーザー用光学部材を製造する方法において前記多孔質シリカ母材の透明ガラス化を1×10-2torr以上の高真空下で行ない、前記出発母材を生成する工程と、該出発母材を水素含有雰囲気下で300乃至600°Cの温度領域を保持して水素濃度を1×1017分子/cm3 以上含有させる工程とを含む事を特徴とする耐紫外線レーザー用光学部材の製造方法。

IPC (5件)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03B 32/00 ,  C03B 37/018 ,  G02B 1/00