特許

J-GLOBAL ID：200903068183572910

基板洗浄装置

発明者： 田上 公一 ,  北村 晋治 ,  穴井 徳行 ,  佐藤 尊三 ,  友枝 隆之 ,  岩崎 達也 ,  溝崎 健吾
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-125690
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045303
出願日： 1993年05月27日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】 装置の大形化を招くことなく、所望時間の洗浄を実施することができ、スペースファクターの向上と洗浄処理のフレキシビィリティーの向上を図ることのできる基板洗浄装置を提供する。【構成】 ブラシ洗浄装置2には、LCD用ガラス基板4を係止して搬送する基板搬送アーム5が設けられており、この基板搬送アーム5によるLCD用ガラス基板4の搬送路を挟む如く上下に多数の表面洗浄ブラシ6および裏面洗浄ブラシ7と、純水供給ノズルが設けられている。この基板搬送アーム5は、所望により搬送方向に往復運動を繰り返して、所定時間LCD用ガラス基板4の洗浄を実施することができるよう構成されている。

請求項（抜粋）：

被洗浄基板の両面を洗浄する如く、基板搬送路を挟んで複数の洗浄ブラシが配列されたブラシ洗浄機構と、前記被洗浄基板を保持して前記基板搬送路に沿って搬送するとともに、該被洗浄基板を搬送方向前後に移動させつつ前記ブラシ洗浄機構で所望時間洗浄を実施可能に構成された基板搬送機構とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 7/04 ,  G02F 1/13 101

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-234536
  
• 特開昭61-279857
  
• 特開平3-070133
  
• 特開平1-105376