特許
J-GLOBAL ID：200903068190377856
磁気記録媒体用基板及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-147477
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006359
出願日： 1993年06月18日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】 シリコン基板を用いこの基板に熱拡散による酸化膜を作成する。この酸化膜に溝加工を施すことで、磁気ヘッドの吸着防止性、記録密度向上、信頼性の向上、動作特性の向がはかれる磁気記録媒体の安価にかつ大量に提供することをを目的とする。【構成】 シリコン基板1に熱拡散による酸化膜2を作成し、これにレジスト6を用いたエッチングを行って溝加工を施し、均一高精度の凹凸パターンを作製する。その後、これを基板として磁性媒体層4を形成して磁気ディスクを作製する。
請求項（抜粋）：
シリコン表面に、同心円状、またはスパイラル状の溝を有する酸化膜を備えることを特徴とする磁気記録媒体用基板。
IPC (2件)：
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