処理液供給方法及び処理液供給装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-325492
公開番号（公開出願番号）：特開2001-137766
出願日： 1999年11月16日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】レジスト液を供給する装置において,レジスト液中に溶け込んでいる気体を予め除去する。【解決手段】床F下数メートルに位置するリキッドエンドタンク83から,第1のポンプ82によって,床F上にあるバッファタンク90までレジスト液を汲み上げる機能を有するレジスト液供給装置80において,第2の管路91に第2の弁94を設け,その第2の弁94よりも低位に,第2の管路91から分岐する第3の管路95と,この第3の管路95を開閉する第1の弁96とを取り付ける。そして,第1のポンプ82を停止し,第2の弁94を閉じ,第1の弁96を開くと,第2の管路91内のレジスト液の自重により,第2の弁94の直下に負圧空間が生じ,溶存気体が析出する。

請求項（抜粋）：

処理液供給源の処理液をポンプによって汲み上げて,前記処理液供給源と供給用バッファタンクを結ぶ配管を通して,前記処理液供給源よりも高位にある前記供給用バッファタンクにまで移送し,この供給用バッファタンクからの処理液を基板に供給する処理液供給方法であって,前記配管中において,前記処理液中の溶存気体を泡として析出させる工程を有することを特徴とする,処理液供給方法。

IPC (4件)：

B05C 11/10 , B05D 3/00 , G03F 7/16 501 , H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 11/10 , B05D 3/00 B , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 564 Z

Fターム (21件)：

2H025AA18 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025EA04 , 4D075AC64 , 4D075AC84 , 4D075AC93 , 4D075DA06 , 4D075DC22 , 4D075EA45 , 4F042AA07 , 4F042BA09 , 4F042CA01 , 4F042CA07 , 4F042CB02 , 4F042CB08 , 4F042CB19 , 4F042CB20 , 4F042EB00 , 5F046JA01 , 5F046JA03

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