特許
J-GLOBAL ID:200903068223976114

現像方法及び現像装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 韮澤 弘 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-124538
公開番号(公開出願番号):特開平5-323619
出願日: 1992年05月18日
公開日(公表日): 1993年12月07日
要約:
【要約】【目的】 レジストパターンを形成するための現像液の温度を一定化し、必要最少限の現像液で現像を行うことができる現像方法と現像装置。【構成】 基板1に平行2に天板を近接させ、基板1と天板2の間に現像液6を挟み、その現像液6により基板1の感光層を現像する。現像液6の空気との接触面積が減り、気化熱等による温度変化が少なくなり、現像される感光パターンの精度が向上する。現像液6を表面張力により支持するようにすることで、現像に必要な現像液の量が極めて少なくなる。また、基板1を保持する基板保持台4と天板2内に恒温循環液7を流して、基板保持台4と天板2の温度を一定に保つことにより、現像液6の温度がさらに一定に保たれる。
請求項(抜粋):
電離放射線により露光された感光層を有する基板を現像液に接触させて現像する現像方法において、基板に平行に天板を近接させ、基板と天板の間に現像液を挟み、その現像液により基板の感光層を現像することを特徴とする現像方法。
IPC (3件):
G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027
FI (2件):
H01L 21/30 341 P ,  H01L 21/30 361 L
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭62-133720
  • 特開昭62-117323
  • 特開平2-064646
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