特許

J-GLOBAL ID：200903068234261915

露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 佐藤 洋 ,  篠田 健一郎
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-254386
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087232
出願日： 1997年09月03日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 レチクル面上のパターンを種々な照明モードで照明しても常に高い解像力が得られる露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 光源から放射した露光光でパターンを照明し、該パターンを露光面に設けた基板面上に光学系を利用して露光する露光装置において、露光面における照度分布を測定するために該露光面にその受光部を一致させて該露光面及び露光光軸方向に沿って移動する照度計と、該露光面の光源側に配された、該露光面における露光範囲を規制する、開口の大きさが可変であるマスクキング手段とを設け、該マスクキング手段により該露光面から該露光光軸方向に変位した平面に該光学系の瞳面の光強度分布が現れるように該露光範囲を規制し、該照度計の受光部を該平面に一致させて該照度計を該平面に沿って移動させることにより該光強度分布を測定すること。

請求項（抜粋）：

光源から放射した露光光でパターンを照明し、該パターンを露光面に設けた基板面上に光学系を利用して露光する露光装置において、露光面における照度分布を測定するために該露光面にその受光部を一致させて該露光面及び露光光軸方向に沿って移動する照度計と、該露光面の光源側に配された、該露光面における露光範囲を規制する、開口の大きさが可変であるマスキング手段とを設け、該マスキング手段により該露光面から該露光光軸方向に変位した平面に該光学系の瞳面の光強度分布が現れるように該露光範囲を規制し、該照度計の受光部を該平面に一致させて該照度計を該平面に沿って移動させることにより該光強度分布を測定することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 C ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-065623