シリル化合物の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大石治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-323538
公開番号（公開出願番号）：特開2003-128680
出願日： 2001年10月22日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】シリル化反応における過剰分又は未反応分のシリル化剤が分解したシラノール化合物や、脱シリル化反応の副生物であるシラノール化合物を再利用するシリル化合物の製造方法を提供する。【解決手段】式(1):R1R2R3SiOH(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルケニル基、炭素数1〜20のアルキニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表されるシラノール化合物と、式(2):X-OH(式中、Xは有機基を表す。)で表される化合物とを、触媒の存在下に脱水反応させることを特徴とする、式(3):R1R2R3SiO-X(式中、R1、R2、R3及びXは前記と同じ意味を表す。)で表されるシリル化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

式(1):R1R2R3SiOH(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルケニル基、炭素数1〜20のアルキニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表されるシラノール化合物と、式(2):X-OH(式中、Xは有機基を表す。)で表される化合物とを、触媒の存在下に脱水反応させることを特徴とする、式(3):R1R2R3SiO-X(式中、R1、R2、R3及びXは前記と同じ意味を表す。)で表されるシリル化合物の製造方法。

IPC (2件)：

C07F 7/18 , C07B 61/00 300

FI (5件)：

C07F 7/18 D , C07F 7/18 E , C07F 7/18 J , C07F 7/18 Q , C07B 61/00 300

Fターム (13件)：

4H039CA92 , 4H039CD10 , 4H039CD30 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ21 , 4H049VR23 , 4H049VR41 , 4H049VS18 , 4H049VT37 , 4H049VT38 , 4H049VT50 , 4H049VW02

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭62-187476
特開昭62-145092
特開昭62-123190

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引用文献：

出願人引用 (2件)

審査官引用 (2件)

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