特許
J-GLOBAL ID:200903068255544828

位置合わせ方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丹羽 宏之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-351708
公開番号(公開出願番号):特開2003-151889
出願日: 2001年11月16日
公開日(公表日): 2003年05月23日
要約:
【要約】【課題】 高速度でかつ高スループットという矛盾した性能を安価で適用する系の提案。プロセスエラーに対応したアライメント方法を、フォーカスオフセット取りの高速化、ウエハー周辺部の異物検査も同時に行う系の提案でもある。【解決手段】 露光装置外に、ウエハーをチャックで吸着し、そのチャック上にマークを配置して、チャック上マークに対するウエハー各ショットの方軸の相対関係を計測しチャック毎露光装置に搬送し露光装置ではチャック上マークのみの計測を行って露光する方法。アライメント計測においてはレジスト無有での形状計測を行い、信号シミュレーションによりアライメントエラーを算出できる様にもする。フォーカスオフセットも露光装置外で計測し、その情報を露光装置に反映して、露光を行うことで高精度、高スループットな系が可能となる。異物検査も実施。
請求項(抜粋):
第1物体のパターンを第2物体上に相対位置合わせて転写する露光装置において、前記露光装置外に前記第2物体上の複数のマークの位置を検出する位置検出系と前記複数のマークの形状を計測する三次元形状計測器を配置し、前記第2物体を吸着部材で支持し、前記第2物体上の前記複数のマークの形状を前記三次元形状計測器で計測し、かつ前記吸着部材上に配置した三次元位置を計測可能なマークと前記第2物体上の複数のマークとの三次元的な相対位置を前記位置検出系で計測し、その情報から発生するオフセットを計算により算出し、前記吸着部材に吸着したまま、前記第2物体を前記露光装置に移動し、前記露光装置内の三次元の位置を計測可能な検出系により、前記吸着部材上の前記マークのみを計測し、前記第1物体と前記第2物体の位置合わせをし、露光することを特徴とした位置合わせ方法。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G01B 21/00 ,  G01B 21/20 101 ,  G03F 7/22
FI (7件):
G01B 21/00 D ,  G01B 21/00 P ,  G01B 21/20 101 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 525 R ,  H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 525 X
Fターム (10件):
2F069AA03 ,  2F069AA66 ,  2F069BB15 ,  2F069GG01 ,  2F069GG07 ,  2F069GG52 ,  2F069HH30 ,  5F046ED02 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05

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