特許
J-GLOBAL ID:200903068255544828
位置合わせ方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
丹羽 宏之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-351708
公開番号(公開出願番号):特開2003-151889
出願日: 2001年11月16日
公開日(公表日): 2003年05月23日
要約:
【要約】【課題】 高速度でかつ高スループットという矛盾した性能を安価で適用する系の提案。プロセスエラーに対応したアライメント方法を、フォーカスオフセット取りの高速化、ウエハー周辺部の異物検査も同時に行う系の提案でもある。【解決手段】 露光装置外に、ウエハーをチャックで吸着し、そのチャック上にマークを配置して、チャック上マークに対するウエハー各ショットの方軸の相対関係を計測し、チャック毎露光装置に搬送し、露光装置では、チャック上マークのみの計測を行って露光する方法。アライメント計測においてはレジスト無有での形状計測を行い、信号シミュレーションによりアライメントエラーを算出できる様にもする。フォーカスオフセットも露光装置外で計測し、その情報を露光装置に反映して、露光を行うことで高精度、高スループットな系が可能となる。異物検査も実施。
請求項(抜粋):
第1物体のパターンを第2物体上に相対位置合わせて転写する露光装置において、前記露光装置外に前記第2物体上の複数のマークの位置を検出する位置検出系と前記複数のマークの形状を計測する三次元形状計測器を配置し、前記第2物体を吸着部材で支持し、前記第2物体上の前記複数のマークの形状を前記三次元形状計測器で計測し、かつ前記吸着部材上に配置した三次元位置を計測可能なマークと前記第2物体上の複数のマークとの三次元的な相対位置を前記位置検出系で計測し、その情報から発生するオフセットを計算により算出し、前記吸着部材に吸着したまま、前記第2物体を前記露光装置に移動し、前記露光装置内の三次元の位置を計測可能な検出系により、前記吸着部材上の前記マークのみを計測し、前記第1物体と前記第2物体の位置合わせをし、露光することを特徴とした位置合わせ方法。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G01B 21/00
, G01B 21/20 101
, G03F 7/22
FI (7件):
G01B 21/00 D
, G01B 21/00 P
, G01B 21/20 101
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 525 R
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 525 X
Fターム (10件):
2F069AA03
, 2F069AA66
, 2F069BB15
, 2F069GG01
, 2F069GG07
, 2F069GG52
, 2F069HH30
, 5F046ED02
, 5F046FC04
, 5F046FC05
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