特許
J-GLOBAL ID:200903068266345746

アロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-366203
公開番号(公開出願番号):特開2003-171361
出願日: 2001年11月30日
公開日(公表日): 2003年06月20日
要約:
【要約】【課題】 実質的に二量体や三量体を含有することなく、熱安定性が良好であり、臭気が少なく、低粘度であるアロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法を提供する。【解決手段】 以下の工程からなる、アロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法により解決する。なお、(b)はヘキサメチレンジイソシアネート、(c)はカルボン酸ジルコニウム塩が好ましい。第一工程:炭素数1〜10のモノオール(a)と有機ジイソシアネート(b)を、アロファネート化触媒(c)の存在下、70〜150°Cでイソシアネート基を水酸基の1.9〜2.1倍モル反応させる工程。第二工程:触媒毒(d)を添加して、アロファネート化反応を停止する工程。第三工程:遊離の有機ジイソシアネートを含有量が1%以下になるまで除去する工程。【化1】
請求項(抜粋):
以下の工程からなる、アロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法。第一工程:炭素数1〜10のモノオール(a)と有機ジイソシアネート(b)を、アロファネート化触媒(c)の存在下、70〜150°Cでイソシアネート基を水酸基の1.9〜2.1倍モルまで反応させる工程。第二工程:触媒毒(d)を添加して、アロファネート化反応を停止する工程。第三工程:遊離の有機ジイソシアネートを含有量が1%以下になるまで除去する工程。
IPC (3件):
C07C275/60 ,  C07B 61/00 300 ,  C08G 18/78
FI (3件):
C07C275/60 ,  C07B 61/00 300 ,  C08G 18/78 Z
Fターム (60件):
4H006AA02 ,  4H006AC59 ,  4H006BA10 ,  4H006BA32 ,  4H006BC10 ,  4H039CA99 ,  4H039CF40 ,  4J034CA02 ,  4J034CA32 ,  4J034CB01 ,  4J034CB03 ,  4J034CB08 ,  4J034CC02 ,  4J034CC12 ,  4J034CC23 ,  4J034CC26 ,  4J034CC45 ,  4J034CC52 ,  4J034CC61 ,  4J034CC62 ,  4J034CD06 ,  4J034CD14 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HB05 ,  4J034HB07 ,  4J034HB11 ,  4J034HB12 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC70 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034KA01 ,  4J034KB07 ,  4J034KC02 ,  4J034KC04 ,  4J034KC07 ,  4J034KC08 ,  4J034KC13 ,  4J034KC16 ,  4J034KC17 ,  4J034KC18 ,  4J034KC32 ,  4J034KC35 ,  4J034KD02 ,  4J034KE02 ,  4J034QA05 ,  4J034QB15 ,  4J034QC01 ,  4J034RA07 ,  4J034RA08
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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