特許
J-GLOBAL ID:200903068266345746
アロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-366203
公開番号(公開出願番号):特開2003-171361
出願日: 2001年11月30日
公開日(公表日): 2003年06月20日
要約:
【要約】【課題】 実質的に二量体や三量体を含有することなく、熱安定性が良好であり、臭気が少なく、低粘度であるアロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法を提供する。【解決手段】 以下の工程からなる、アロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法により解決する。なお、(b)はヘキサメチレンジイソシアネート、(c)はカルボン酸ジルコニウム塩が好ましい。第一工程:炭素数1〜10のモノオール(a)と有機ジイソシアネート(b)を、アロファネート化触媒(c)の存在下、70〜150°Cでイソシアネート基を水酸基の1.9〜2.1倍モル反応させる工程。第二工程:触媒毒(d)を添加して、アロファネート化反応を停止する工程。第三工程:遊離の有機ジイソシアネートを含有量が1%以下になるまで除去する工程。【化1】
請求項(抜粋):
以下の工程からなる、アロファネート基含有ポリイソシアネートの製造方法。第一工程:炭素数1〜10のモノオール(a)と有機ジイソシアネート(b)を、アロファネート化触媒(c)の存在下、70〜150°Cでイソシアネート基を水酸基の1.9〜2.1倍モルまで反応させる工程。第二工程:触媒毒(d)を添加して、アロファネート化反応を停止する工程。第三工程:遊離の有機ジイソシアネートを含有量が1%以下になるまで除去する工程。
IPC (3件):
C07C275/60
, C07B 61/00 300
, C08G 18/78
FI (3件):
C07C275/60
, C07B 61/00 300
, C08G 18/78 Z
Fターム (60件):
4H006AA02
, 4H006AC59
, 4H006BA10
, 4H006BA32
, 4H006BC10
, 4H039CA99
, 4H039CF40
, 4J034CA02
, 4J034CA32
, 4J034CB01
, 4J034CB03
, 4J034CB08
, 4J034CC02
, 4J034CC12
, 4J034CC23
, 4J034CC26
, 4J034CC45
, 4J034CC52
, 4J034CC61
, 4J034CC62
, 4J034CD06
, 4J034CD14
, 4J034HA01
, 4J034HA07
, 4J034HB05
, 4J034HB07
, 4J034HB11
, 4J034HB12
, 4J034HC03
, 4J034HC12
, 4J034HC13
, 4J034HC17
, 4J034HC22
, 4J034HC46
, 4J034HC52
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC70
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034KA01
, 4J034KB07
, 4J034KC02
, 4J034KC04
, 4J034KC07
, 4J034KC08
, 4J034KC13
, 4J034KC16
, 4J034KC17
, 4J034KC18
, 4J034KC32
, 4J034KC35
, 4J034KD02
, 4J034KE02
, 4J034QA05
, 4J034QB15
, 4J034QC01
, 4J034RA07
, 4J034RA08
引用特許:
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