特許
J-GLOBAL ID:200903068275644446

ベーク装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 下田 容一郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-148067
公開番号(公開出願番号):特開平5-326532
出願日: 1992年05月15日
公開日(公表日): 1993年12月10日
要約:
【要約】【目的】 ベーク装置の熱効率を高め且つ均一処理を可能とする。【構成】 蓋体34下面の反射板37とホットプレート12の間のパージ空間でベーク処理を行なう。この場合、昇降プレート25を上昇させ、搬送装置16の支持ロッド20からエジェクタピン31で板状被処理物Wを受け取り、エジェクタピン31で板状被処理物Wの下面を支え、ホットプレート12との間に所定の隙間を形成した状態で行なう。そして、1つのホットプレート12におけるベーク処理が終了したら、昇降プレート25を下げ、再び板状被処理物Wを搬送装置16の支持ロッド20上に載置し、この状態で搬送装置により隣のホットプレート12上に板状被処理物Wを移す。
請求項(抜粋):
搬送機構によって板状被処理物をホットプレート上に載置して加熱するようにしたベーク装置において、このベーク装置はホットプレート上方にパージ室を形成する蓋体を設け、この蓋体の裏面には閉じた状態でホットプレートと対向する反射板を取り付けたことを特徴とするベーク装置。
IPC (3件):
H01L 21/324 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/68
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平3-270012
  • 特開平4-142027
  • 特開平2-003909
全件表示

前のページに戻る