特許

J-GLOBAL ID：200903068294717608

レジストの剥離液及び剥離方法

発明者： 佐通 祐一 ,  赤星 晴夫 ,  諏訪 時人 ,  吉村 豊房 ,  宮崎 政志 ,  富田 俊成
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-173191
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022122
出願日： 1995年07月10日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【構成】フォトレジストを一種類以上の非ハロゲン系有機溶剤を含有する剥離液を用いて剥離する方法において、剥離液がぎ酸,酢酸,プロピオン酸,ジメチルホルムアミド,N-メチル-2-ピロリドン,フルフリルアルコールの内少なくとも一種類を含むレジスト剥離液を用いる剥離法。【効果】従来から用いられている塩化メチレンと同等又はそれ以上のレジストの剥離能力を有する。

請求項（抜粋）：

非ハロゲン系有機溶剤を含有するレジストの剥離液において、前記剥離液が、ぎ酸,酢酸,プロピオン酸,ジメチルホルムアミド,N-メチル-2-ピロリドン,フルフリルアルコールの少なくとも一種類を含むことを特徴とするレジスト剥離液。

IPC (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/34 ,  H05K 3/26

FI (3件)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/34 ,  H05K 3/26 E