特許

J-GLOBAL ID：200903068311965556

精密基板の洗浄方法及び洗浄装置

発明者： 鈴木 雅之 ,  中津 正幸 ,  田鹿 篤 ,  渡辺 政孝 ,  岡崎 智
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344007
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151453
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：

【要約】【課題】 サブストレート、マスクブランク、フォトマスク等の精密基板の洗浄において、装置の大型化や薬液の過度の高温化を必要とせず、洗浄効果を十分発揮して精密基板を安定して洗浄することができる洗浄技術を提供する。【解決手段】 洗浄処理槽内14に配置された基板支持台22上に精密基板30を保持し、硫酸とオゾン水をそれぞれ別個の供給口26,27から基板上に同時に供給して枚葉式に洗浄する。好ましくは、基板を水平に静止または回転させた状態で、熱濃硫酸(濃度90wt%以上、温度70°C〜120°C)と低温保持されたオゾン水(オゾン濃度10ppm以上、温度10°C〜30°C)を少量ずつ供給してパドル洗浄を行う。

請求項（抜粋）：

精密基板に洗浄液を供給して該基板を枚葉式に洗浄する方法であって、前記洗浄液として硫酸とオゾン水をそれぞれ別個の供給口から基板上に同時に供給することを特徴とする精密基板の洗浄方法。

IPC (8件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 17/08

FI (8件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 17/08

Fターム (20件)：

3B201AA01 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB22 ,  3B201BB82 ,  3B201BB89 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CB11 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  3B201CC21 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA03 ,  4H003EA31 ,  4H003ED02 ,  4H003FA21