特許
J-GLOBAL ID：200903068312940379
メッキ処理基板、磁気記録媒体およびこれらの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
志賀 正武 (外11名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-329347
公開番号（公開出願番号）：特開平11-161933
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：
【要約】【課題】 メッキ膜剥離を確実に防止することができ、しかも容易に製造することが可能なメッキ処理基板、これを用いた磁気記録媒体、およびこれらの製造方法を提供する。【解決手段】 非金属基板1上とメッキ膜3の間に、メッキ膜3の剥離を防ぐ付着強化膜2が形成され、付着強化膜2が、第1付着強化層2A上に第2付着強化層2Bが形成された2層構造を有し、第1付着強化層2Aが、Cr、Ti、Zr、Si、またはこれらのうち2種以上の合金を主成分とする材料からなり、第2付着強化層2Bが、NiP合金またはPdを主成分とする材料からなるものとされている。
請求項（抜粋）：
非金属基板とメッキ膜の間に、メッキ膜の剥離を防ぐ付着強化膜が形成されたメッキ処理基板であって、この付着強化膜が、第1付着強化層上に第2付着強化層が形成された2層構造を有し、第1付着強化層が、Cr、Ti、Zr、Si、またはこれらのうち2種以上の合金を主成分とする材料からなり、第2付着強化層が、NiP合金またはPdを主成分とする材料からなるものであることを特徴とするメッキ処理基板。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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