スチレン系重合体の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大谷保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277489
公開番号（公開出願番号）：特開平7-233213
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：

【要約】【目的】触媒活性の低下がなく、残留金属量の低いシンジオタクチック構造のスチレン系重合体を、簡単なプロセスにより低いコストで製造しうる方法を提供すること。【構成】シンジオタクチックポリスチレン重合用触媒、好ましくは、(A)遷移金属化合物、(B)(a)該(A)成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物又は(b)特定の酸素含有化合物、及び場合により用いられる(C)アルキル基含有金属化合物からなる触媒に、インデン系化合物の含有量が50ppm 以下のスチレン系単量体を接触させて重合させることにより、スチレン系重合体を製造する方法である。

請求項（抜粋）：

スチレン系単量体をシンジオタクチックポリスチレン重合用触媒に接触させて重合させるに当たり、スチレン系単量体として、インデン系化合物の含有量が50ppm以下のものを用いることを特徴とするスチレン系重合体の製造方法。

IPC (2件)：

C08F 4/76 MFJ , C08F 12/08 MJU

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平4-249504
特開平1-294705
特開平3-121104

審査官引用 (3件)

特開平4-249504
特開平1-294705
特開平3-121104

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