特許
J-GLOBAL ID：200903068332782850
レーザ捺印装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-296880
公開番号（公開出願番号）：特開平5-245662
出願日： 1991年11月13日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：
【要約】【目的】レーザ発振時におけるビームの急岐な立上りによる深堀り現象をなくし、内部配線を損傷させることなく描画捺印する。【構成】レーザヘッド1より発生するレーザ光経路中にレーザ光を絞る絞り機構4を設け、レーザ発振と同時にこの絞り機構4を最小絞り径4eより徐々に広げビームエネルギーを徐々に増大させて急峻なレーザビームの立上りを緩和させることによって深掘り現象を防止している。
請求項（抜粋）：
高い尖頭値をもつパルス光のレーザ光線を複数の走査鏡により高速で振らせて樹脂封止型半導体装置の外郭体に捺印するレーザ捺印装置において、前記レーザ光線を発生するレーザヘッドと、発生する前記レーザ光線を一方向及びその方向に直交する方向に振らし走査する複数の前記走査鏡と、前記レーザ光線の経路途中に挿入され前記レーザ光線を絞る絞り機構とを備え、この絞り機構の開閉によって発振開始時の前記レーザ光線の急峻な立上りをなだらかにすることを特徴とするレーザ捺印装置。
IPC (5件)：
B23K 26/00
, B23K 26/06
, B41C 1/02
, B41F 17/36
, H04N 1/23 103
