マトリクス支持式レーザー脱離法の測定で用いられる質量分析システムおよび方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤野清也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-505748
公開番号（公開出願番号）：特表平10-513546
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】複数のサンプルを受ける移動可能な複数のサンプル支持体と、各サンプル支持体上の各サンプルの位置を識別するための識別手段とを含む、複数のサンプルを分析するためのシステム。サンプル収容チャンバ内に配置された複数のサンプルを分析するための質量分析計を有し、レーザー源から各サンプルにレーザーパルスが照射されてサンプル分子が脱離・イオン化される。質量分析計のサンプル収容チャンバに各サンプル支持体を自動で出し入れするための支持体移送機構を備えている。真空ロックチャンバはサンプル支持体を収容し、別のサンプル支持体上の複数のサンプルにレーザーパルスが照射されている間に少なくとも1つのサンプル支持体を制御された真空環境中に維持する。質量分析計からのデータを受けてシステムの動作を制御するためのコンピュータが備えられている。

請求項（抜粋）：

下記(1)〜(7)を含む複数のサンプルを分析するためのシステム:(1) 所定位置に複数のサンプルを収容するサンプル収容表面を有する、移動可能な複数のサンプル支持体、(2) 各サンプル支持体上の各サンプルの位置を識別するための識別手段、(3) 内部に各サンプル支持体を収容するためのサンプル収容チャンバを有する、各サンプル支持体上の各サンプルを分析する質量分析計、(4) 収容チャンバ内にある各サンプル支持体上の各サンプルにレーザーパルスを照射してサンプル分子を脱離・イオン化させるためのレーザー源、(5) 質量分析計のサンプル収容チャンバに各サンプル支持体を自動的に出し入れするための支持体移送機構、(6) サンプル支持体を収容し且つ別のサンプル支持体上の複数のサンプルにレーザーパルスが照射されている間に1つまたは複数のサンプル支持体を制御された減圧環境下に保持する真空ロックチャンバ、および(7) 質量分析計から送られてくるサンプル支持体上の複数のサンプルに関するデータを識別手段の関数として記録するコンピュータ手段。

IPC (4件)：

G01N 27/64 , G01N 1/28 , G01N 27/62 , H01J 49/04

FI (5件)：

G01N 27/64 B , G01N 27/62 F , G01N 27/62 V , H01J 49/04 , G01N 1/28 T

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭53-023691
真空チャンバへの赤外線導入構造
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-320627 出願人：電子科学株式会社
特開平3-053444

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