特許

J-GLOBAL ID：200903068341577194

マスク投影同時走査型露光装置

発明者： 小出 純
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-130825
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321528
出願日： 1999年05月12日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 インクジェット記録ヘッドの精密なレプリカ型等を安価に一括加工できる露光装置を実現する。【解決手段】 紫外線レーザ等の光源から発振された光束(レーザ光)Lは、ビームエキスパンダー1を経てフォトマスク2に照射され、結像レンズ系3の第1、第4のレンズ3a,3dによって被加工物Wに結像される。結像レンズ系3はマスク側と被加工物の双方にテレセントリックな両側テレセントリック光学系であり、第2、第3のレンズ3b,3cは入射側と出射側に焦点面を有するキャッツアイレンズを構成し、第1、第4のレンズ3a,3dによる結像光学系の瞳AをBの位置に投影転送する。一方の瞳Aに絞り4、他方の瞳Bに走査ミラー5を設けることで、マスクパターンの走査による2次元的な広範な加工と線状の微細加工を同時に行なう露光装置を実現できる。

請求項（抜粋）：

レーザ光を発生する光源と、マスクを経て前記レーザ光を被加工物に照射する投影光学系を備えており、該投影光学系が、内部に少なくとも2個の瞳を形成しかつ前記マスク側と前記被加工物側の双方にテレセントリックである両側テレセントリック光学系を有し、該両側テレセントリック光学系の前記2個の瞳のうちの一方に光学的絞り、他方に光偏向器が配設されていることを特徴とするマスク投影同時走査型露光装置。

IPC (5件)：

G02B 27/18 ,  B23K 26/06 ,  B41J 2/135 ,  G03B 27/70 ,  G03F 7/20 505

FI (5件)：

G02B 27/18 Z ,  B23K 26/06 J ,  G03B 27/70 ,  G03F 7/20 505 ,  B41J 3/04 103 N

Fターム (15件)：

2C057AF93 ,  2C057AP13 ,  2C057AP23 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097CA17 ,  2H097EA01 ,  2H097EA03 ,  2H097GB00 ,  2H097LA16 ,  4E068AD00 ,  4E068CD10 ,  4E068CD11 ,  4E068CD14 ,  4E068DA00