特許

J-GLOBAL ID：200903068350087299

露光方法及び露光装置

発明者： 井上 壮一 ,  田中 聡 ,  藤澤 忠仁
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-238147
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094399
出願日： 1993年09月24日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】 全ての方向のパターンに対して同じ解像力,焦点深度向上効果をもたらすことができ、縦線及び横線が混在するLSIパターンであっても良好にパターン転写することができる露光装置を提供すること。【構成】 フォトマスク3を照明光学系によって照明し、フォトマスク3上のパターンを投影光学系を介してウエハ6上に縮小投影する露光装置において、照明光学系中に設けられ、フォトマスク3への照明光束を直線偏光するための偏光板1と、投影光学系の瞳位置に設けられ、スリット状の開口部を有するスリットフィルタ7と、スリットフィルタ7の開口部の長手方向と偏光板1を透過した光の偏光面とが互いに垂直になるように保持した状態で、スリットフィルタ7と偏光部材1を同期して光軸中心に回転させる回転機構とを具備してなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも2つの異なる方向に長辺を有するパターンが形成されたフォトマスクを偏光光によって照明し、投影光学系を介してウエハ上に投影する露光方法において、前記投影光学系内の前記偏光光の結像位置に、前記偏光光の偏光面に対して垂直方向に長いスリット状の開口部を有し、この偏光面の偏光光が透過するスリットフィルタを配置し、前記偏光光の偏光面を回転させると共にこれに同期して前記スリットフィルタを回転させ、前記フォトマスク上のパターンの長辺方向と前記偏光光の偏光面が平行となる位置毎に前記フォトマスクを前記偏光光により照明して、前記フォトマスク上のパターンを前記ウエハに露光することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 515 D