レーザプラズマX線発生装置およびその発生方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-116069
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306693
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】レーザ光の照射時にターゲット表面にキーホールが発生することを抑制し、かつ、デブリの発生を抑制するレーザプラズマX線発生装置およびその発生方法を提供する。【解決手段】プラズマ発生用のターゲット6を冷却伝導板7を介して冷媒9によって冷却してプラズマ発生用ガス2をターゲット6の表面に吸着させる。その結果、ターゲット6の表面に固体または液体のガス吸着層5を形成する。

請求項（抜粋）：

レーザ光をターゲットの物質に照射することにより発生したプラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線発生装置において、ターゲットを冷却する冷却手段と、ターゲットを内部に設置して真空排気可能なプラズマ発生室と、プラズマ発生室へプラズマ発生用の気体またはプラズマ発生用の液体を導入する手段とを備え、ターゲットを冷却することによりターゲットの表面にプラズマ発生用の気体またはプラズマ発生用の液体を吸着させてガス吸着層を形成することを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。

IPC (3件)：

H05G 2/00 , H05G 1/02 , H05H 1/24

FI (3件)：

H05G 1/00 K , H05G 1/02 P , H05H 1/24

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