特許
J-GLOBAL ID：200903068360332720
ガス導入装置及びその生産方法、並びに、アッシング装置及びその運転方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110839
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318155
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】 ウェハ上のフォトレジストに対するアッシング効率の低下を抑えることができ、スループットの低下を防止できるガス導入装置、アッシング装置等を提供する。【解決手段】 アッシング装置10は、チャンバ11内のサセプタ1に対向するように配置されたGDPキット20が設けられたものである。GDPキット20は、チャンバ11上壁に一方端が接合されたチューブ21の他方端にトッププレート22が接合され、更にその下方にアッパープレート23及びローワープレート24が、チューブ21及びトッププレート22と同軸状に配置されたものである。そして、アッパープレート23及びローワープレート24の表面全体の平均的な表面粗さが0.25μm以下とされている。
請求項（抜粋）：
基体が収容されるチャンバ内に設けられており、該基体上の被処理物を該基体上から除去するための反応ガスが供給されるガス導入装置であって、前記反応ガス由来の活性種が流通する複数の孔が設けられ且つ前記基体に対向するように配置される分散部を有しており、前記分散部の少なくとも一部の表面粗さが0.25μm以下である、ことを特徴とするガス導入装置。
Fターム (14件)：
5F004AA13
, 5F004AA16
, 5F004BA03
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BB26
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC03
, 5F004BD01
, 5F004DA01
, 5F004DA25
, 5F004DA26
, 5F004DB26
