特許

J-GLOBAL ID：200903068362524872

ベーパ乾燥装置

発明者： 田村 実 ,  吉井 健雄 ,  田沼 昇 ,  呂畑 勉 ,  猶原 洋 ,  根岸 秋野 ,  川村 めぐみ
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立電子エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204551
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029277
出願日： 1992年07月08日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】【目的】 無駄な処理時間および乾燥不足が発生するのを防止する。【構成】 ベーパ槽3の底部に貯留されたIPA6を加熱してベーパ7を発生させ、このベーパ雰囲気中にウエハ1を浸漬し、ウエハ1とベーパ7との温度差によって水16とベーパ7の滴であるIPA6とを置換させ、その後のIPA6の蒸発によってウエハ1を乾燥させるベーパ乾燥装置において、ベーパ槽3内にウエハ1からの水分16の滴下を受けるトレー10が配設されトレー10に排液14を流下させる排液管11が接続されている。排液管11の途中に排液14のIPA比抵抗値を測定するIPA比抵抗計20が介設されている。【効果】 IPA比抵抗計20によって排液管11を流下する排液14のIPA比抵抗値を測定することができるため、測定されたIPA比抵抗値に基づいてウエハ1の水分16とベーパ7との置換完了時点を検知できる。この検知に基づいて、ベーパ乾燥時間を補正できる。

請求項（抜粋）：

ベーパ槽の底部に有機溶剤を貯留し、この有機溶剤を加熱してベーパを発生させ、このベーパ雰囲気中に被処理物を浸漬し、被処理物とベーパとの温度差によって水とベーパの滴である有機溶剤とを置換させ、その後の有機溶剤の蒸発によって被処理物を乾燥させるように構成されているベーパ乾燥装置において、前記ベーパ槽内に前記被処理物からの水分の滴下を受けるトレーが配設されているとともに、このトレーに排液を流下させる排液管が接続されており、前記排液管の途中に有機溶剤比抵抗計が介設され、この有機溶剤比抵抗計は排液管を流下する排液の比抵抗値を測定するように構成されていることを特徴とするベーパ乾燥装置。