特許
J-GLOBAL ID:200903068367664460

光ディスクおよび光ディスク製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小池 晃 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-113134
公開番号(公開出願番号):特開平10-302321
出願日: 1997年04月30日
公開日(公表日): 1998年11月13日
要約:
【要約】【課題】 波長350nm以上の光源を用いて原盤を露光形成して、長さが0.40μmより短いピットを含み、最長ピットの幅に対する最短ピットの幅の比が0.8以上である高記録密度の光ディスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 光ディスクの反射膜20側から見たピット幅Aは、反射膜側20を成膜するとディスク基板10側から見たピット幅幅Bよりもその膜厚分だけ減少することを利用して、ディスク基板10側から見たときに最適とされるピット幅よりも全体的に幅広なピット列を、波長350nm以上のレーザで原盤に露光形成しておく。この原盤からディスク基板10に転写されたピット列上に反射膜20を形成して、ピット間干渉や再生RF信号のジッタが最小になるピット幅にする。信号は、ディスク基板10側からではなく反射膜20側(すなわち光透過層30側)から読み出されるようにする。
請求項(抜粋):
記録信号に応じたピット列が形成された基板と、上記基板のピット列が形成された面に成膜された反射膜と、上記反射膜上に形成された光透過層とを備え、上記ピット列として記録された信号が上記光透過層側から読み出されるようにされた光ディスクにおいて、上記光透過層側から見たピット列が、長さが0.40μmより短いピットを含み、最長ピットの幅に対する最短ピットの幅の比が0.8以上であることを特徴とする光ディスク。
IPC (3件):
G11B 7/24 563 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/26 501
FI (3件):
G11B 7/24 563 D ,  G11B 7/24 563 A ,  G11B 7/26 501
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-315032
  • 光学的情報記録部材
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-252855   出願人:松下電器産業株式会社
  • 特開平1-315032

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