特許
J-GLOBAL ID：200903068378341336
高屈折率光学材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010129
公開番号（公開出願番号）：特開平5-194672
出願日： 1992年01月23日
公開日（公表日）： 1993年08月03日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 屈折率が大きく耐衝撃性にすぐれた光学材料の提供。【構成】 下式〔I〕のビス(メタ)アクリレート、下式〔II〕〜〔IV〕の少なくとも一つのメルカプト化合物およびスチレン化合物の重合硬化物。(式中、R1は、水素原子またはメチル基、R2はC1〜6のアルキレン基、ArはC6〜30のアリーレン基、アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子で置換されたそれらの基、X0は-O-または-S-、YはX0が-O-を示す場合には-S-または-SO2-、X0が-S-を示す場合には-S-、-SO2-、-CO-、またはC1〜12のアルキレン基等)(式中、R3は-CH2-または-CH2CH2-、R4はC2〜15の炭化水素残基またはアルキルエーテル残基。)
請求項（抜粋）：
下記の化合物A、BおよびCを含んでなる組成物を熱および(または)活性エネルギー線および(または)エチレン性不飽和結合に対するラジカル発生剤の作用に付すことによって重合硬化させてなる樹脂からなる高屈折率光学材料。(式中、R1は、水素原子またはメチル基を示す。R2は、炭素数1〜6のアルキレン基を示す。Arは、炭素数がいずれも6〜30であるアリーレン基、アラルキレン基、またはフッ素を除くハロゲン原子で置換されたそれらの基を示す。X0は、-O-または-S-を示す。Yは、X0が-O-を示す場合には-S-または-SO2-を示し、X0が-S-を示す場合には-S-、-SO2-、-CO-、または炭素数がいずれも1〜12であるアルキレン基、アラルキレン基、アルキレンエーテル基、アラルキレンエーテル基、アルキレンチオエーテル基およびアラルキレンチオエーテル基から選ばれた基を示す。mおよびnは、それぞれ1〜5の整数を示す。pは、0〜10の数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。)(式中、R3は、-CH2-または-CH2CH2-を示す。R4は、炭素数がいずれも2〜15の炭化水素残基またはアルキルエーテル残基を示す。qは、2〜6の整数を示す。複数個存在する基は同一でも異なってもよい。)【化1】【化2】(式中、R3およびR4は、それぞれ同一または異なる炭素数1〜3のアルキレン基を示す。dおよびeはそれぞれ0または1、fは1または2を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。) C.下記一般式〔V〕で示されるスチレン化合物 1〜49重量%【化3】(式中、R5は、水素原子またはメチル基を示し、X2はフッ素を除くハロゲン原子、zは0または1〜5の整数を示す。複数個存在する基は、同一でも異なってもよい。)
IPC (4件)：
C08F220/38 MMU
, C08F299/02 MRR
, C08G 75/04 NTW
, G02B 1/04
