特許

J-GLOBAL ID：200903068383891417

汚染地盤構成物類の浄化方法

発明者： 飯尾 正俊 ,  千秋 由里 ,  棟近 嘉一
出願人/特許権者： ライト工業株式会社
代理人 (1件)： 永井 義久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-118330
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300506
出願日： 2000年04月19日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】有機化合物特に有機塩素化合物により汚染された土壌や地下水等の地盤構成物類の浄化方法に関する。【解決手段】有機化合物で汚染された地盤から少なくとも汚染土壌をバックホウ1により取り出して処理容器3内に投入し、この処理容器3内において有機汚染物質溶出促進剤と接触させて有機汚染物質を溶出させた後、溶出した有機汚染物質を酸化剤と接触させて分解するようにする。

請求項（抜粋）：

有機化合物で汚染された汚染地盤構成物類を有機汚染物質溶出促進剤と接触させて有機汚染物質を溶出させるとともに、溶出した有機汚染物質を酸化剤と接触させて分解することを特徴とする汚染地盤構成物類の浄化方法。

IPC (6件)：

B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  A62D 3/00 ,  B09B 3/00 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72

FI (5件)：

A62D 3/00 ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z ,  B09B 3/00 304 K ,  B09B 3/00 ZAB

Fターム (26件)：

2E191BA12 ,  2E191BB01 ,  2E191BC01 ,  2E191BC05 ,  2E191BD11 ,  4D004AA41 ,  4D004AB06 ,  4D004AC05 ,  4D004AC07 ,  4D004CA15 ,  4D004CA36 ,  4D004CA40 ,  4D004CC03 ,  4D004CC04 ,  4D004CC05 ,  4D004CC11 ,  4D038AA02 ,  4D038AA10 ,  4D038AB14 ,  4D038BB05 ,  4D038BB16 ,  4D050AA02 ,  4D050AA20 ,  4D050AB19 ,  4D050BB09 ,  4D050CA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特表平2-501543
  
• 土壌の修復方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-170907   出願人：環境エンジニアリング株式会社
• 汚染土壌の浄化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-230027   出願人：鹿島建設株式会社
• 特表平2-501543