特許

J-GLOBAL ID：200903068406244082

金属酸化物膜形成用組成物及びその製造法並びに金属酸化物膜の形成法

発明者： 内田 文生
出願人/特許権者： 富士化学株式会社
代理人 (1件)： 三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256721
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109119
出願日： 1993年10月14日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】 従来技術の問題点を解決し、任意の基板に対し、優れた密着性を示しつつ、膜形成能に優れた単独又は複合元素の金属酸化物膜を容易に製造することのできる金属酸化物膜形成用組成物を提供すること、上記の金属酸化物膜形成用組成物の製造法を提供すること、さらに、上記の金属酸化物膜形成用組成物により、欠陥がなく、均質で良好な金属酸化物膜を形成する方法を提供することを目的とする。【構成】 (1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合物の少なくとも一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種及びロジン並びに(4)有機溶媒を特定の割合で配合することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物。上記の各成分を特定の割合及び順序で配合することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物の製造法。上記組成物を基板上に塗布し、焼成することを特徴とする金属酸化物膜の形成法。

請求項（抜粋）：

金属酸化物膜形成用組成物であって、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合物の少なくとも一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一種を含み、(5)成分(1)を金属酸化物換算で0.5〜20%含有し、(6)成分(1)中の金属1グラム原子に対し、成分(2)を0.1〜nモル(nは成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種以上の金属を使用する場合には加重平均酸化数である)を含み、(7)成分(3)を5〜80%含有し、(8)成分(4)を20〜80%含有することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物。

IPC (18件)：

C01G 1/02 ,  C01B 13/32 ,  C01B 33/12 ,  C01F 17/00 ,  C01G 1/00 ,  C01G 3/00 ZAA ,  C01G 3/02 ,  C01G 9/02 ,  C01G 15/00 ,  C01G 19/00 ,  C01G 23/00 ,  C01G 25/00 ,  C01G 31/02 ,  C01G 33/00 ,  C01G 35/00 ,  C01G 45/02 ,  C04B 35/49 ,  C23C 18/12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-331715
  
• 特開平2-064002
  
• 特開平1-111714