特許
J-GLOBAL ID:200903068415921836
ディフューザ製造方法およびディフューザ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-051619
公開番号(公開出願番号):特開平8-015506
出願日: 1995年03月10日
公開日(公表日): 1996年01月19日
要約:
【要約】【目的】 個々のマイクロレンズの大きさが小さく、ある程度のランダムさを有しているマイクロレンズアレイを備えたディフューザを提供する。【構成】 記録媒体7にスペックルパターンを記録することにより、光マスク4を作製し、これを用いてディフューザを製造する。光重合性材料3を光マスク4に隣接して配置し、光マスク4を通して光源に露光する。スペックルパターンに対応して光重合性材料3に勾配屈折率マイクロレンズが形成される。
請求項(抜粋):
記録媒体にスペックルパターンを記録して光マスクを作製する工程と、該光マスクを光重合性材料に隣接して配置する工程と、該光重合性材料を該光マスクを通して照射することにより該光重合性材料の屈折率を変化させ、スペックルパターンに対応する勾配屈折率レンズを形成する工程と、を包含するディフューザ製造方法。
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