回折光学素子の作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：日比谷征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-250852
公開番号（公開出願番号）：特開2001-074924
出願日： 1999年09月03日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
要約：

【要約】【課題】回折光学素子に生ずる突起部を除去する。【解決手段】 (a)〜(q)の回折格子作製工程において生じた(r)に示す突起部46a、46bを、20°Cの5%フッ酸水溶液に30秒間浸漬して除去した後に、水洗し乾燥する。これにより、基板31は等方的に約200オングストローム、エッチングされるため、突起部46a、46bはほぼ完全に除去され、(s)に示す8段の階段形状を有する回折光学素子47が得られる。

請求項（抜粋）：

エッチングにより、突起状形状エラー部を除去する段階を有する階段状素子の作製方法において、前記エッチング後に階段状素子の形状が設計値となるように、前記階段状素子をリソグラフィで作業する際のマスクの寸法を設定することを特徴とする回折光学素子の作製方法。

Fターム (6件)：

2H049AA04 , 2H049AA14 , 2H049AA33 , 2H049AA37 , 2H049AA39 , 2H049AA57

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