特許
J-GLOBAL ID：200903068441629507
パターン形成方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-023623
公開番号（公開出願番号）：特開平7-211630
出願日： 1994年01月26日
公開日（公表日）： 1995年08月11日
要約：
【要約】【目的】 複雑なフォトリソグラフィプロセスにおいても、総合的な線幅均一性を向上させる方法を提供することであり、またその方法を実施する装置を提供する。【構成】 フォトリソグラフィ技術による本パターン形成方法は、制御装置24を介して現像装置18をレジスト線幅測定装置22にインライン接続し、レジスト線幅測定装置により計測したレジスト線幅測定データに基づき、現像装置の現像雰囲気温度、現像雰囲気湿度、現像液温度及び現像液濃度のうちの少なくとも一つについてその最適条件を制御装置により求めて現像装置にフィードバックし、それによってレジスト線幅を安定化する。本パターン形成装置10は、現像装置が、制御装置を介してレジスト線幅測定装置にインライン接続され、制御装置が、レジスト線幅測定装置により計測したレジスト線幅測定データに基づき、現像装置の現像雰囲気温度、現像雰囲気湿度、現像液温度及び現像液濃度のうちの少なくとも一つについて求めた最適条件で現像装置をフィードバック制御する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィ技術によりウェハー上にパターンを形成する方法において、制御装置を介してレジスト塗布装置をレジスト線幅測定装置にインライン接続し、レジスト線幅測定装置により計測したレジスト線幅測定データに基づき、レジスト塗布装置のウェハー回転時間、塗布雰囲気温度、塗布雰囲気湿度、レジスト温度及びウェハー温度のうちの少なくとも一つについて求めた最適条件でレジスト塗布装置をフィードバック制御し、それによってレジスト線幅を安定化することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 501
H01L 21/30 564 Z
, H01L 21/30 569 Z
