特許

J-GLOBAL ID：200903068446247270

新規含フッ素チタノシロキサン化合物及びそれを用いた硬化皮膜形成剤

発明者： 小野 猪智郎 ,  上原 仁 ,  一戸 省二
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-086695
公開番号（公開出願番号）：特開平6-271679
出願日： 1993年03月22日
公開日（公表日）： 1994年09月27日
要約：

【要約】【構成】 下記一般式:【化1】〔式中、aは0又は1、bは1又は2であり、a+bは1又は2とする、cは0,1又は2、pは、1〜12の整数であり、R1 及びR2 は、低級アルキル基であり、R3 は、炭素数3又は4のアルキル基であり、R4 は、炭素数14以下のパーフルオロアルキルエチル基、炭素数18以下のアルキル基またはフェニル基、もしくはオルガノシロキシ基である〕で表される含フッ素チタノシロキサン化合物。【効果】 撥水効果が著しく優れ、例えば水滴の落下性が極めて高い硬化皮膜を、常温で容易に形成することが可能となる。またこの化合物は、通常の有機溶剤に容易に溶解し、フッ素系等の格別の溶剤を用いずに硬化皮膜形成剤として使用することができる。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1):【化1】式中、aは0又は1、及びbは1又は2であり、a+bは1又は2とする、cは0,1又は2、pは、1〜12の整数であり、R1 及びR2 は、それぞれ炭素原子数1〜4の一価炭化水素基であり、R3 は、炭素原子数3又は4の一価炭化水素基であり、R4 は、Cp F2p+1CH2 CH2 -(pは前記と同じ)、炭素原子数1〜18の一価炭化水素基、または下記式(1a):【化2】(式中、nは0〜50の整数)で表される基である、で表される含フッ素チタノシロキサン化合物。

IPC (3件)：

C08G 79/00 NUR ,  C09D 5/00 PPG ,  C09D185/00 PMW

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 塗装面の表面処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-228381   出願人：日本曹達株式会社
• 多段型誘導電動機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-166169   出願人：ファナック株式会社
• 表面処理剤の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-313306   出願人：日本曹達株式会社